本文讲解如何借助Square按钮和Center按钮绘制以中心为起始点的正方形或正圆形遮罩。
为了防止在ZBrush中雕刻的时候不影响雕刻到模型的背面,可以在ZBrush中设置背面遮罩。
本文将对Mask(遮罩)进行讲解,遮罩可以将局部进行遮挡,在编辑时被遮罩的部分将不参与任何编辑。
通过上篇文章介绍,我们已经对遮罩有了初步的了解,知道遮罩可以将局部进行遮挡,从而实现锁定和保护模型的作用。本文将对遮罩的基本编辑进行讲解,首先主要讲解反选遮罩。
通过上篇文章介绍,我们已经对遮罩有了初步的了解,知道遮罩可以将局部进行遮挡,从而实现锁定和保护模型的作用;也对反选遮罩有了一些了解,本文将对遮罩的基本编辑进行讲解,主要讲解清除遮罩。
我们知道遮罩可以将局部进行遮挡,从而实现锁定和保护模型的作用,反选遮罩可以选择遮罩以外的区域从而进行编辑,清除遮罩可以将编辑完成的遮罩取消。本文将对遮罩的基本编辑进行讲解,主要讲解遮罩的图案控制。
通常我们在ZBrush中制作模型完成后,我们需要导入到其他三维软件中进行编辑,比如拓扑,烘培。使用ZBrush软件中提供的减面插件,可以直接用将三维软件中的高精度减成一个低模本,文将对减面操作做详细讲解。
有时在做模型的雕刻时,会出现很多模型的布线妨碍我们操作,此时,我们就要对模型进行重建细分,对于消失的模型细节,我们就需要把原来高模的细节映射到新的模型上面。
本文将为大家介绍第三种创建子物体的方法,即使用绘制层得到子物体。
本文将为大家介绍如何通过遮罩为模型添加SubTool(子物体工具)。